WET STATION
WET STATION은 반도체 및 디스플레이 제조 공정에서 화학 용액을 이용해 웨이퍼와 유리 기판을 세정하는 장비입니다. 침지 또는 스프레이 방식으로 공정 중 발생한 오염 물질을 제거하고, 세정부터 린스와 건조까지 안정적인 연속 공정을 지원합니다.
- Pre-Diffusion Clean, Post-Etch Clean, Stripping 등 Batch 공정 대응
- Chemical Tank와 DI Water/Chemical 공급 라인 구성
- Bath별 침지 시간과 온도, 공정 시간 제어
- 배기, 배수 및 폐액 처리 시스템 적용
- 공정 조건에 따른 Bath 재질, 크기 및 수량 맞춤 설계
핵심 특징
공정 구성
- 독립적인 Bath 운전을 통한 Chemical Bath 세정 공정
- Heater, Bubble, Rinse 기능 선택 적용
- 세정, 린스, 건조 단계의 연속 공정
오염 제거 및 건조
- 유기물, 금속 및 입자 오염 물질 제거
- 수동 또는 자동 건조 공정 운전
- 균일한 표면 처리를 통한 공정 재현성 확보
제품 사양
200 mm Wet Station 대표 사양
| 적용 공정 | Pre-Diffusion Clean, Post-Etch Clean, Stripping |
|---|---|
| Particle | ≤ 65 nm, ≤ 50 ea |
| E/R Uniformity | ≤ 5% |
| Productivity | Max. 420 WPH |
| Process Control | Bath별 침지 시간, 온도 및 공정 시간 제어 |
| Interface | Software & GUI |
| Customization | 공정 조건에 따른 맞춤형 시스템 구성 |